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Arc-PVD-Anlage

Arc-PVD-AnlageBei der am LWT genutzten Arc-PVD Anlage der Firma Metaplas handelt es sich um eine 20"-Beschichtungsanlage für den Einsatz in Entwicklung und Produktion, mit der diverse Schichtsysteme abgeschieden werden können (z.B. TiN, CrN, TiCN, etc). Dazu können bis zu vier Lichtbogen-Verdampferquellen (Targets) gleichzeitig verwendet werden um anforderungsgerechte Schichtsysteme herzustellen. Ein weiteres Anwendungsfeld neben der Beschichtung ist das Plasmanitrieren von metallischen Substraten zur Verbesserung der mechanischen und adhäsiven Eigenschaften der Werkstückoberflächen aus niedrig und hoch legierten Stählen.

Arc-PVD-Anlage_plasma_tn 


Technische Daten:

Kammermaße: Volumen: 130 dm³

Durchmesser x Höhe: 480 x 640 mm davon nutzbar 190 x 410 mm

Temperatur-Messbereich: 180 – 500°C

Beladung: bis zu 350 kg

Verdampfer: 3 Stück, 4 Einbaulagen (3 an den Wänden, 1 im Deckel)
Energieversorgung: 27 – 40 V; 35 – 100 A einstellbar
Puls Controller: - Spannung 0 – 1000 V

+ Spannung 0 – 100 V

Pulsbereich bis 1000 V, 100 A

Frequenz: 0,1 bis 50 kHz

Pulsbreite: 0,01 bis 99,99 %

Drehantrieb: mittig im Kammerboden, Drehzahl 0–10,5 min-1
Pumpstand: Drehschieberpumpe:

Saugleistung: 75 m³/h / Endvakuum: 1x10-3 mbar

Diffusionspumpe:

Saugleistung: 3000 lt/s / Endvakuum: 1x10-7 mbar

Temperatur: Messbereich: 180 – 500 °C