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Magnetronsputter-Anlage CC 800/9 Custom(CemeCon)


Die Magnetronsputter-Anlage CC800/9sinox ML der Firma Cemecon ist eine vollautomatische PVD-Anlage, mit der das Abscheiden von metallischen und keramischen Dünnschichtsystemen im DC- bzw. m.f.-Pulsmodus möglich ist. Zusätzliche Einbauten wie  Mittelheizung, Plasmabooster und Spektrometern zur Plasmaanalyse erweitern das Anwendungsgebiet und ermöglichen so große Flexibilität bei der Entwicklung von Dünnschichtkonzepten für die Produktionstechnik. Der modulare Aufbau der CC800/9sinox erlaubt des Weiteren deren Systemerweiterung, um auch für zukünftige Forschungsaufgaben am LWT bestens gerüstet zu sein.

magnettzronsputterbild1

Technische Daten:  

Anlagenkomponenten

Beschichtungskammer
Kammermaße:

Volumen: 722,5 dm3

850 x 850 x 1.000 mm3 (B x T x H)

magnettzronsputterbild2

magnettzronsputterbild3

Nutzbarer Beschichtungsraum:

Durchmesser:400mm

Höhe:400 mm

Substrattisch: 6 Planetenantriebe mit jeweils Ø 400 mm
Maximale Beladung des Substrattisches: 250 kg
Sputterkathoden: 6 Stück incl. Shutter
Plasmabooster: 2 Stück montiert in Fronttür
Kathoden
SPK588 4 Stk. – Kathoden 1, 2, 3, 4

CK588 2 Stk. – Kathoden 5, 6
Target
Targetmaße 500 x 88 mm (B x L)
Targetdicke < 11 mm
Leistungsversorgungen
DC - Kathoden 1, 2, 3, 4 4 Stk. AE Pinnacle II, 20 kW, 800V/50A
MF – Kathoden 1-3, 2-4 2 Stk. Astral 20 kW
HiPIMS Kathoden 5, 6 1 Stk. Dual ADL 2x GX 150/1000 je Gerät 15 kW, 1000V, 30A

Vakuumsystem

Erreichbarer Enddruck: 1 x 10-6 mbar (0,1 mPa)
Vorpumpe
Saugvermögen max. 62/70 m3/h bei 50/60 Hz
Arbeitsdruck min. 500 mPa
Hochvakuumpumpe
Saugvermögen max. 1.900 l/s N2
Drehzahl 31.500 rpm
Betriebsbereich 10-2 bis 10.000 mPa

Gase

Gas 1 – Argon (Ar) 500 mln/min Regler
Gas 2 – Stickstoff (N2) 500 mln/min Regler
Gas 3 – Krypton (Kr) 500 mln/min Regler
Gas 4 – Acetylen (C2H2) 200 mln/min Regler
Gas 5 – Sauerstoff (O2) 200 mln/min Regler

Heizung

Maximale Leistung frontale/hintere Heizung 8,8 kW
Maximale Leistung Mittelheizung 15 kW