Die Magnetronsputter-Anlage CC800/9sinox ML der Firma Cemecon ist eine vollautomatische PVD-Anlage, mit der das Abscheiden von metallischen und keramischen Dünnschichtsystemen im DC- bzw. m.f.-Pulsmodus möglich ist. Zusätzliche Einbauten wie Mittelheizung, Plasmabooster und Spektrometern zur Plasmaanalyse erweitern das Anwendungsgebiet und ermöglichen so große Flexibilität bei der Entwicklung von Dünnschichtkonzepten für die Produktionstechnik. Der modulare Aufbau der CC800/9sinox erlaubt des Weiteren deren Systemerweiterung, um auch für zukünftige Forschungsaufgaben am LWT bestens gerüstet zu sein.
Kammermaße: |
Volumen: 722,5 dm³
850 x 850 x 1000 mm3 (B x T x H) |
Nutzbarer Berschichtungsraum: |
Durchmesser: 400 mm
Höhe: 400 mm |
Substrattisch: | Durchmesser: 400 mm mit 6 Satelliten |
Maximale Beladung des Substrattisches: | 250 kg |
Maximale Ladung: | 1800 St. Spiralbohrer D=6 mm DIN 338 4900 St. Schneidplatten RDMA 1205 |
Verdampfer: | 4 Sputterkathoden CK 588 |
Leistungsversorung (Verdampfer): | wahlweise bis zu 4 DC- oder Pulsgeneratoren 10 kW |
Anoden / BIAS: | wahlweise DC- oder Pulsgenerator, 2 St. |
Leistungsversorgung (Anoden): | 1 St. 10 kW, 640 V, 25 A, Typ AE Pinnacle Plus |
Drehantrieb: | mittig im Kammerboden |
Zykluszeit bei einer Ladung für 3 µm TINALOX: | 5,5 St. |
Prozessgase: | Ar, Kr, N2, O2, CH4, C2H2, H2 |
Pumpenstand: | Vorpumpe Pfeiffer DUO 65 Arbeitsbereich: min. 500 mPa 2 Turbomolekularpumpen Pfeiffer TPH2100 Arbeitsbereich: 10-3 – 10.000 mPa |
Plasma-Diagnostik: | Gegenfeldanalysator (Massenspektrometer) - CCD Plasma-Emmisionsmonitor (Emmisionsspektroskopie) |