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PVD Anlage CC 800 / 9sinox ML (CemeCon)

PVD-Anlage-CC800_tn

Die Magnetronsputter-Anlage CC800/9sinox ML der Firma Cemecon ist eine vollautomatische PVD-Anlage, mit der das Abscheiden von metallischen und keramischen Dünnschichtsystemen im DC- bzw. m.f.-Pulsmodus möglich ist. Zusätzliche Einbauten wie  Mittelheizung, Plasmabooster und Spektrometern zur Plasmaanalyse erweitern das Anwendungsgebiet und ermöglichen so große Flexibilität bei der Entwicklung von Dünnschichtkonzepten für die Produktionstechnik. Der modulare Aufbau der CC800/9sinox erlaubt des Weiteren deren Systemerweiterung, um auch für zukünftige Forschungsaufgaben am LWT bestens gerüstet zu sein.


Technische Daten:

Kammermaße: Volumen: 722,5 dm³

850 x 850 x 1000 mm3 (B x T x H)

Nutzbarer Berschichtungsraum: Durchmesser: 400 mm

Höhe: 400 mm

Substrattisch: Durchmesser: 400 mm mit 6 Satelliten
Maximale Beladung des Substrattisches: 250 kg
Maximale Ladung: 1800 St. Spiralbohrer D=6 mm DIN 338 4900 St. Schneidplatten RDMA 1205
Verdampfer: 4 Sputterkathoden CK 588
Leistungsversorung (Verdampfer): wahlweise bis zu 4 DC- oder Pulsgeneratoren 10 kW
Anoden / BIAS: wahlweise DC- oder Pulsgenerator, 2 St.
Leistungsversorgung (Anoden): 1 St. 10 kW, 640 V, 25 A, Typ AE Pinnacle Plus
Drehantrieb: mittig im Kammerboden
Zykluszeit bei einer Ladung für 3 µm TINALOX: 5,5 St.
Prozessgase: Ar, Kr, N2, O2, CH4, C2H2, H2
Pumpenstand: Vorpumpe Pfeiffer DUO 65 Arbeitsbereich: min. 500 mPa 2 Turbomolekularpumpen Pfeiffer TPH2100 Arbeitsbereich: 10-3 – 10.000 mPa
Plasma-Diagnostik: Gegenfeldanalysator (Massenspektrometer) - CCD Plasma-Emmisionsmonitor (Emmisionsspektroskopie)